鍍鉻液雜質的影響
鍍鉻液中常見的陰離子雜質有:氯離子、根離子,它們通常由配制槽液的生產(chǎn)用水引入,以及鍍件在鍍前出來清洗不而引入鍍液中。
氯離子含量過高,將惡化鍍液的分散能力,深鍍能力,使鍍層粗糙、發(fā)灰,甚至出現(xiàn)花斑。還會使鍍槽的鉛襯里溶解和陽極溶解,增加鍍液中的雜質。同樣,含量很低的根離子就能使鍍鉻層發(fā)灰、無光澤,破壞鍍槽的鉛襯里和陽極溶解。
工藝流程
鍍硬鉻的一般工藝流程如下：
機械預處理（精加工、濕噴砂等）→三或過預脫脂→上掛具，安裝屏蔽物、輔助陰極和輔助陽極→在不要鍍鉻的部位涂漆或蠟，或用其它方法作絕緣處理→電解脫脂（或擦拭脫脂）→流動水洗 →陽極腐蝕→鍍硬鉻→流動水洗→熱水洗→卸掛具→去氫。
初用于鍍硬鉻的標準鍍鉻溶液，由于只使用硫酸作催化劑，陰極電流效率僅為12%～15%。這種溶液仍在廣泛應用中。
緊固件在加工和處理過程中，尤其在鍍前的酸洗和堿洗以及隨后的電鍍過程中，表面吸收了氫原子沉積的過程中產(chǎn)生氫。當緊固件擰緊時，氫朝著應力集中的部分轉移，引起壓力到超過它的強度并產(chǎn)生微小的表面，氫滲入到新形成的裂隙中去。這種壓力--滲入的循環(huán)一直繼續(xù)到緊固件斷裂。通常發(fā)生在次應力應用后的幾個小時之內(nèi)。為了消除氫脆的威脅，緊固件要在鍍后3小時內(nèi)加熱烘烤，以使氫從鍍層中滲出，通常在200℃左右的溫度下進行，處理時間根據(jù)其要求的抗拉強度來決定。
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